Глава НЦФМ рассказал об отечественной альтернативе литографическому оборудованию от ASML
techcult.ruНа просторах Сети уже появлялась информация о том, что в России ведутся работы по литографической установке, способной выпускать 7-нм чипы и даже говорилось о первых образцах полупроводников, а теперь появились новые данные по разработкам в этом направлении.
По словам научного руководителя НЦФМ Александра Сергеева, которые он привел выступая на завершившемся сегодня форуме «Атомэкспо 2022», в основе российского литографического оборудования будут лежать три отечественных достижения.
В пример, на который нужно ориентироваться и даже обойти его, Сергеев привел литограф от ASML с модельным номером NXE:3400B, имеющий 13,5-нанометровую длину волны.
Принцип функционирования данного оборудования заключается в испарении лазерной установкой капель из олова, в итоге чего образуется плазма, а уже рентген-излучение от нее используется непосредственно для самой фотолитографии.
Читать на techcult.ru
