Владимир Владимирович Путин — российский государственный и политический деятель, действующий президент Российской Федерации и верховный главнокомандующий Вооружёнными силами Российской Федерации с 7 мая 2012 года
Ранее занимал должность президента с 31 декабря 1999 года по 7 мая 2008 года, в 1999—2000 и 2008—2012 годах находился на посту председателя правительства Российской Федерации.
Выпускник юридического факультета Ленинградского государственного университета. С 1977 года работал по линии контрразведки в следственном отделе Ленинградского управления КГБ. С 1985 по 1990 год служил в резидентуре советской внешней разведки в ГДР, работал в Дрездене под прикрытием в должности директора дрезденского Дома дружбы СССР—ГДР. 20 августа 1991 года в звании подполковника уволился из КГБ СССР.
В 1990—1991 годах работал помощником ректора ЛГУ по международным вопросам, советником председателя Ленинградского городского Совета народных депутатов Собчака, в 1991—1996 возглавлял Комитет по внешним связям мэрии Ленинграда, был советником мэра, первым заместителем председателя правительства Санкт-Петербурга. С августа 1996 года начал работать в Москве в должности заместителя управляющего делами президента Российской Федерации. После недолгого пребывания во главе ФСБ РФ и на посту секретаря Совета Безопасности Российской Федерации в августе 1999 года был назначен председателем Правительства Российской Федерации.
Технология Canon конкурирует с ASML в производстве чипов
acryptoinvest.newsНовая система FPA-1200NZ2C может производить 5-нанометровые полупроводники и масштабироваться до 2 нм, превосходя возможности чипа A17 Pro, установленного в Apple iPhone 15 Pro и Pro Max.Canon, японская компания, известная своими принтерами и камерами, представила в пятницу, 13 октября, инновационное решение, которое призвано помочь в производстве передовых полупроводниковых компонентов.Согласно сообщению CNBC, недавно представленная система «наноимпринтной литографии» Canon представляет собой конкурентный ответ компании голландской фирме ASML, доминирующей силе в секторе машин для литографии в крайнем ультрафиолете (EUV).
Оборудование ASML имеет важное значение для производства передовых чипов, в том числе тех, которые используются в последних моделях Apple iPhone.Использование этих машин было втянуто в технологический конфликт между США и Китаем.
Соединенные Штаты, применяя экспортные ограничения и различные санкции, стремятся заблокировать доступ Китая к важнейшим чипам и производственному оборудованию, препятствуя прогрессу второй по величине экономики мира в области, где она уже воспринимается как отстающая.Технология EUV ASML завоевала значительную популярность среди ведущих производителей микросхем благодаря своей решающей роли в обеспечении производства полупроводников с толщиной 5 нанометров и ниже.
Это нанометровое измерение относится к размеру элементов чипа: меньшие значения соответствуют большему количеству функций на чипе, что, следовательно, повышает производительность полупроводников.Сообщается, что компания Canon объявила, что ее новая система FPA-1200NZ2C может производить полупроводники по 5-нм техпроцессу и масштабироваться до 2 нм, превосходя возможности чипа A17 Pro, установленного в Apple iPhone 15
Читать на acryptoinvest.news
