Научно-исследовательский институт молекулярной электроники (НИИМЭ), имеющий статус резидента ОЭЗ "Технополис Москва", занялся разработкой фоторезистов – литографических материалов для электронной промышленности, сообщил руководитель столичного департамента инвестиционной и промышленной политики (ДИПП) Владислав Овчинский."Более половины всей продукции, выпускаемой в ОЭЗ, приходится на микроэлектронику.
В кластер микроэлектроники входит и компания "НИИМЭ", которая планирует наладить производство отечественных фоторезистов, востребованных при выпуске интегральных микросхем.
Потребителями продукции станут российские производители микроэлектроники", - указал глава департамента, слова которого приводит пресс-служба ДИПП.Фоторезист – светочувствительный полимерный материал, который наносят на кремниевую пластину в ходе процесса фотолитографии.
С его помощью на поверхности обрабатываемой детали формируются выделенные участки – "окна" – для дальнейшего травления или легирования поверхности.
Читать на ria.ru